Vakuumsysteme mit Oberflächenkondensatoren

Vielfältige Verwendungsmöglichkeiten bieten die individuell auf jeden Anwendungsfall ausgelegten mehrstufigen Körting Vakuumsysteme. In der Prozesstechnik hat sich der Einsatz mit Oberflächenkondensatoren bewährt. Der große Vorteil liegt dabei in der Trennung von Kühl- und Prozessmedium. Körting Vakuumsysteme mit Oberflächenkondensatoren sind in verschiedenen Optionen verfügbar.

Im nebenstehenden Schema ist eine 3-stufige Anlage dargestellt. In diesem Beispiel werden zwei Strahlpumpenstufen direkt hintereinander geschaltet, um einen Saugdruck von 1 mbar bei minimalem Treibmitteleinsatz zu erreichen. Die Temperatur des zur Verfügung stehenden Kühlwassers bestimmt den erreichbaren Druck im ersten Oberflächenkondensator. Eine weitere Strahlpumpenstufe verdichtet die nicht kondensierbaren Bestandteile des Saugstromes aus dem ersten Oberflächenkondensator bis auf Atmosphärendruck. Im nachgeschalteten Oberflächenkondensator wird der Treibdampf der vorgeschalteten Strahlpumpe kondensiert.

Funktionsschema einer Dampfstrahl-Vakuumanlage mit Oberflächenkondensator
Funktionsschema einer Dampfstrahl-Vakuumanlage mit Oberflächenkondensator

Vorteil

  • Trennung von Prozess- und Kühlmedium
  • Jahrzehnte langer, bewährter Einsatz
  • Fertigung bei Körting im Werk Hannover unter höchsten Qualitätsstandards

Nachteil

  • Verschmutzungsgefahr prozess- und kühlmediumseitig